记者获悉，该团队从界面工程出发，在国际上首次实现了最大规模1Kb纳秒超快闪存阵列集成验证，并证明了其超快特性可延伸至亚10纳米。近日，相关成果以《二维超快闪存的规模集成工艺》为题发表于《自然·电子学》。
复旦大学集成芯片与系统全国重点实验室、芯片与系统前沿技术研究院研究员刘春森和微电子学院教授周鹏介绍，团队开发了超界面工程技术，在规模化二维闪存中实现了具备原子级平整度的异质界面，结合高精度的表征技术，显示集成工艺显著优于国际水平。通过严格的直流存储窗《betway必威》口、交流脉冲存储性能测试，证实了二维新机制闪存在1Kb存储规模中，纳秒级非易失编程速度下良率高达98%，这一良率已高于国际半导体技术路线图对闪存制造89.5%的良率要求。
