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发布时间:2024-11-06 08:14

责任编辑:卢昱君

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其中,在半导体行业中,现有高k材料主要是锆(Zr),但铪更 ♒适合微加工 ♏,且稳定性更突出。铪氧化物薄膜是很可能用于COMS ⏲和下一代DRAM中的候选高介电常数(高k)绝缘层材料。

  本报记者 毛晋 【编辑:屈修 】

  

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