出手就是重磅！

　　近日，深圳新凯来工业机器有限公司在其官微宣布，将在3月底参加中国国际半导体展。这也是该公司的首次亮相。

　　即将亮相

　　据悉，此次新凯来将展出EPI“峨眉山”产品、ETCH“武夷山”产品、CVD“长白山”产品、PVD（普陀山）产品、ALD“阿里山”产品等产品。EPI外延层是半导体制造中的重要技术，尤其是在先进制程和第三代半导体领域。ETCH蚀刻是半导体制造工艺，微电子IC制造工艺以及微纳制造工艺中的一道相当重要的步骤。是与光刻相联系的图形化（pattern）处理的一种主要工艺，目前主要由国际主头主导；CVD化学气相沉积是半导体制造中需求量最大的设备之一，PVD物理气相沉积、ALD原子层沉积等都是半导体制造工艺当中非常重要的高端货。

　　低调的专利大户

　　此前，新凯来的曝光度非常低。网上大多数消息都是其专利信息。3月18日，国家知识产权局信息显示，深圳市新凯来工业机器有限公司申请一项名为“反射结构、热辐射单元及加热装置”的专利，公开号CN 119620268 A，申请日期为2025年1月。

　　专利摘要显示，该申请涉及光学设备技术领域，尤其涉及到一种反射结构、热辐射单元及加热装置。反射结构具有容纳槽，容纳槽具有第一侧壁、第二侧壁和与所述第一侧壁和所述第二侧壁连接的底壁，所述第一侧壁包括第一抛物面，所述第二侧壁包括第二抛物面，所述底壁包括第三抛物面，所述第三抛物面的焦距分别大于所述第一抛物面的焦距和所述第二抛物面的焦距。本申请中的反射结构占用的空间较小，且反射结构反射并汇聚光线的量较多，以提高反射结构的加热效率。

　　去年12月，国家知识产权局信息显示，深圳市新凯来技术有限公司申请一项名为“静电卡盘及工艺设备”的专利，公开号CN 119069414 A，申请日期为2024年11月。

　　专利摘要显示，本申请涉及工艺设备技术领域，尤其涉及到一种静电卡盘及工艺设备。静电卡盘包括基底、第一绝缘介质层和第二绝缘介质层，第一绝缘介质层设置于基底上，第二绝缘介质层设置于第一绝缘介质层背离基底的一侧；其中，第一绝缘介质层内具有至少一个电极对，每个电极对包括一个正电极和一个负电极，第二绝缘介质层和第一绝缘介质层在基底的投影中，第二绝缘介质层的投影至少部分与一个电极对的投影交叠；第二绝缘介质层的电阻率小于第一绝缘介质层的电阻率。本申请中的静电卡盘表面聚集的净电荷释放速较快，可以降低待加工器件从卡盘表面脱离的难度。

　　谁是新凯来？

　　据新凯来技术的官网显示，该公司致力于半导体装备及零部件、电子制造设备的研发、制造、销售与服务。为半导体行业客户提供创新技术与产品解决方案，持续支撑行业健康发展。将国内最优秀的电子制造解决方案和生产测试装备推介给行业客户，促进产业能力提升。

　　公司核心团队具备20年以上电子设备技术开发经验，并联合了众多国内半导体制造设备和零部件合作伙伴，为国内半导体设备厂、FAB厂、电子电器设备厂、研究机构提供先进的解决方案，相关产品广泛应用于国内顶级制造企业和研究、测试机构。

　　据天眼查，新凯来工业机器成立于2022年，注册资本超过10亿元人民币。而新凯来技术成立于2021年，企业注册资本达15亿元人民币，其大股东是深圳市深芯恒科技投资有限公司（控股100%），而深芯恒科技的大股东是深圳市重大产业投资集团有限公司（控股100%），重大产业投资集团的大股东则是深圳国资委。重大产投的董事长戴军是国家集成电路产业投资基金二期股份有限公司的监事，也是中芯国际集成电路制造（深圳）有限公司的董事。重大产投的另一位高管黄秀章则是中芯国际集成电路制造（深圳）有限公司的监事。可以说，新凯来大股东层面的产业背景的确是相当深厚。

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